Учёные ИФХЭ РАН и НИЯУ МИФИ использовали метод химического газофазного осаждения, чтобы объединить свойства двух металлов — вольфрама и меди — для защиты стенки термоядерного реактора. Изобретение уже получило патент. Об этом RT сообщили в пресс-службе Минобрнауки РФ.
Разработка позволит решить одну из основных задач в области термоядерного синтеза — уберечь стенку термоядерного реактора от воздействия раскалённой до миллионов градусов плазмы, заключённой внутри него.
Хотя плазма удерживается и сжимается при помощи магнитного поля, её потоки всё равно могут соприкасаться со стенкой реактора. Это приводит не только к нагреву стенки, но и к распылению материала, из которого сделана стенка реактора, то есть к расщеплению его на атомы, которые затем попадают в качестве примеси в плазму. В результате процесса распыления плазма существенно охлаждается, что может помешать термоядерному синтезу.
Чтобы избежать этого, ранее была разработана концепция так называемой потеющей стенки: внутренняя поверхность реактора покрывается сетью каналов, из которых истекает жидкий литий.
Литий — лёгкий элемент, поэтому ядра лития меньше охлаждают плазму и даже могут участвовать в термоядерных реакциях. В данном подходе слой жидкого лития берёт на себя часть защитных функций. Поэтому материал для «потеющей стенки» должен быть тугоплавким и теплопроводным, а также не должен вступать с жидким литием в химическое взаимодействие и при этом хорошо им смачиваться.
Самый тугоплавкий металл — вольфрам, однако его теплопроводности для эффективного охлаждения стенки недостаточно. Медь обладает очень высокой теплопроводностью, но её нельзя применять для стенок реактора из-за легкоплавкости — металл просто атомизируется при взаимодействии с плазмой и попадёт внутрь реактора, что ухудшит качество плазмы.
Однако учёные придумали, как объединить свойства обоих металлов в одной конструкции.
«Решение состоит в том, чтобы нанести на медную подложку вольфрамовый слой толщиной 30 мкм. Этот слой будет принимать на себя основную атаку — и плазмы, и химически активного лития», — объяснил RT кандидат химических наук, заведующий лабораторией гетерогенного синтеза тугоплавких соединений ИФХЭ РАН Владимир Душик.
Созданное таким методом вольфрамовое покрытие не имеет пор, что является важным преимуществом — это исключает риск взаимодействия медной подложки с агрессивной средой.
«При создании тонкого вольфрамового покрытия на медной подложке задействованы все возможности и преимущества метода химического осаждения из газовой фазы, и результат нас очень радует», — подытожил Владимир Душик.